真空镀膜装饰镀技术

 

　　——物理气相沉积（PVD）低温合成

 

　　物理气相沉积(PVD)技术成果，解决了塑料制品件（特别是尺寸小而薄的工件）真空镀容易变形的技术难题。利用产业化规模的PVD系统，通过计算机自动控制来提高工艺稳定性，沉积出高硬度、少液滴、结合强度高、耐磨性好的TiN膜层。特别是在塑料制品上低温（≤80℃）沉积出质量优良的陶瓷硬质TiN、TiCN薄膜。

 

　　技术特色

 

　　▼ 沉积温度低（≤80℃），工件不变形；

 

　　▼ 计算机自动控制，工艺重复性好；

 

　　▼ 镀层品种丰富：Ag, Ti, Al等金属，TiN, TiCN, ZrN等陶瓷和类金刚石DLC薄膜；

 

　　▼ 基材限制少：塑料、橡胶、各种金属如锌、铝合金、钢、钛）均可镀膜等。

 

　　镀层性能指标 Properties of films

 

　　▼ 膜层硬度高，大于Hv 1300; high hardness, >Hv 1300;

 

　　▼ 膜层厚度：0.1-1.0μm；Thickness of films about 0.1-1.0μm;

 

　　▼ 膜层颜色：以色板为准。Colors of films: up to color sample.